Das Fraunhofer Institut für Mikrostruktur von Materialien und Systemen benötigt für die Forschungs- und Entwicklungsarbeiten an elektronischen Bauteilen und optischen Gläsern ein modulares Digitalmikroskopsystem mit einer Element-Analyseeinheit, das wie folgt ausgelegt werden soll (siehe auch vorliegende Systembeschreibung): Beschafft werden soll ein modular aufgebautes, zusammenhängendes Digitalmikroskopie- und Analysesystem, bestehend aus drei Arbeitsplätzen, für den Einsatz in einer öffentlich geförderten Forschungseinrichtung. Das Gesamtsystem besteht aus zwei eigenständig nutzbaren Basissystemen sowie einem dritten, umsteckbaren Arbeitsplatz und ist so auszulegen, dass ein durchgängiger Workflow von der makroskopischen Übersicht über die hochauflösende Detailanalyse bis hin zur digitalen Messung, Dokumentation und quantitativen Materialanalyse (prozentuale Ausgabe) ermöglicht wird. Das System muss einen sehr breiten Anwendungsbereich abdecken. Es soll von großflächigen Übersichtsaufnahmen bis zur hochauflösenden Mikroanalyse sowie für unterschiedliche Materialien, Oberflächen, Probengrößen und Geometrien geeignet sein. Hierzu sind verschiedene Makro-, Übersichts- und Hochvergrößerungsoptiken sowie mehrere Stativ- und Tischkonfigurationen bereitzustellen. Unterschiedliche Beleuchtungs- und Betrachtungsmodi (z B. Hell- /Dunkelfeld, Polarisations- und Schrägbeleuchtung sowie DIC) müssen integriert und softwareseitig steuerbar sein.

Digitalmikroskopie- und Analyseplattform

Das Fraunhofer Institut für Mikrostruktur von Materialien und Systemen benötigt für die Forschungs- und Entwicklungsarbeiten an elektronischen Bauteilen und optischen Gläsern ein modulares Digitalmikroskopsystem mit einer Element-Analyseeinheit, das wie folgt ausgelegt werden soll (siehe auch vorliegende Systembeschreibung): Beschafft werden soll ein modular aufgebautes, zusammenhängendes Digitalmikroskopie- und Analysesystem, bestehend aus drei Arbeitsplätzen, für den Einsatz in einer öffentlich geförderten Forschungseinrichtung. Das Gesamtsystem besteht aus zwei eigenständig nutzbaren Basissystemen sowie einem dritten, umsteckbaren Arbeitsplatz und ist so auszulegen, dass ein durchgängiger Workflow von der makroskopischen Übersicht über die hochauflösende Detailanalyse bis hin zur digitalen Messung, Dokumentation und quantitativen Materialanalyse (prozentuale Ausgabe) ermöglicht wird. Das System muss einen sehr breiten Anwendungsbereich abdecken. Es soll von großflächigen Übersichtsaufnahmen bis zur hochauflösenden Mikroanalyse sowie für unterschiedliche Materialien, Oberflächen, Probengrößen und Geometrien geeignet sein. Hierzu sind verschiedene Makro-, Übersichts- und Hochvergrößerungsoptiken sowie mehrere Stativ- und Tischkonfigurationen bereitzustellen. Unterschiedliche Beleuchtungs- und Betrachtungsmodi ( B. Hell- /Dunkelfeld, Polarisations- und Schrägbeleuchtung sowie DIC) müssen integriert und softwareseitig steuerbar sein.