Für die Ausstattung des Reinraums zur Herstellung kompakter Quantensystem werden Geräte für eine Mikrotechnologie Prozesskette beschafft. Es entsteht eine komplette Prozesstechnologieket-te vom Wafersubstrat bis zum Quantenchip die in einem von der Universität Ulm zur Verfügung gestellten Reinraum etabliert wird. Dort werden durch das Institut für Quantentechnologien u.a. Technologien für kompakte Dampfzellen so wie Komponenten für Quantenspeicher gebaut, basierend auf der Technologie kalter Atom Gase. Für die Ausstattung des Reinraums wird ein Maschinenpark zur Herstellung, Bearbeitung und Integration von kalten Atomgasen und verwandten Quantentechnologien erweitert. Im Rahmen dieser Ausschreibung wird eine weitere Anlage für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette für den Reinraum beschafft. Dies dient der direkten Lithographie auf dem Zielsubstrat mit hoher Auflösung sowie der Herstellung von UV-Lithographiemasken mittels Laserlithographie. Die Ausschreibung umfasst lediglich die spezifizierte Anlage, die dafür benötigten Medien und Peripherien werden vom DLR separat bereitgestellt. Weitergehende Informationen sind der beigefügten Leistungsbeschreibung (Vertragsunterlagen) zu entnehmen.

Laserlithographie

Für die Ausstattung des Reinraums zur Herstellung kompakter Quantensystem werden Geräte für eine Mikrotechnologie Prozesskette beschafft. Es entsteht eine komplette Prozesstechnologiekette vom Wafersubstrat bis zum Quantenchip die in einem von der Universität Ulm zur Verfügung gestellten Reinraum etabliert wird. Dort werden durch das Institut für Quantentechnologien u.a. Technologien für kompakte Dampfzellen so wie Komponenten für Quantenspeicher gebaut, basierend auf der Technologie kalter Atom Gase. Für die Ausstattung des Reinraums wird ein Maschinenpark zur Herstellung, Bearbeitung und Integration von kalten Atomgasen und verwandten Quantentechnologien erweitert. Im Rahmen dieser Ausschreibung wird eine weitere Anlage für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette für den Reinraum beschafft. Dies dient der direkten Lithographie auf dem Zielsubstrat mit hoher Auflösung sowie der Herstellung von UV-Lithographiemasken mittels Laserlithographie. Die Ausschreibung umfasst lediglich die spezifizierte Anlage, die dafür benötigten Medien und Peripherien werden vom DLR separat bereitgestellt. Weitergehende Informationen sind der beigefügten Leistungsbeschreibung (Vertragsunterlagen) zu entnehmen.