Der Auftraggeber beabsichtigt die Durchführung eines Vergabeverfahrens zur Beschaffung eines Elektronenstrahl-Verdampfungssystems für die Halbleiterfertigung. Gegenstand ist die Lieferung einer Anlage zur Metallabscheidung auf Substraten bis 200 mm Durchmesser im Rahmen von mikro- und nanoelektronischen Prozessen. Die Beschaffung dient der Erweiterung der Prozessmöglichkeiten im Bereich der Halbleiter- und Photoniktechnologie im Rahmen des Projekts APECS.

FBH-03 Electron beam evaporation enabling lift-off-processes for 200 mm wafers

Lieferung, Installation und Inbetriebnahme eines Elektronenstrahl-Verdampfungssystems zur Metallabscheidung auf Halbleitersubstraten bis 200 mm. Die Anlage dient der Herstellung von metallischen Schichten für mikro- und nanoelektronische Anwendungen.